德國安思羅斯Anseros  COM-VD大型臭氧發(fā)生器特點(diǎn)

ANSEROS安索羅斯臭氧發(fā)生器COM-VD系列是在低氧氣消耗量的氣相中，臭氧最高濃度可達(dá)到 300g O3/Nm3。

MEGAGEN系列臭氧發(fā)生器COM-VD能與ANSEROS安索羅斯AOPR反應(yīng)器配合使用，其質(zhì)量轉(zhuǎn)移效果非常好，可以將大量的臭氧轉(zhuǎn)換成液相，從而達(dá)到強(qiáng)力去除COD的目的。

臭氧發(fā)生器MEGAGEN COM-VD系列數(shù)據(jù)表

臭氧發(fā)生器COM-VD系列產(chǎn)品特點(diǎn)：

最高臭氧濃度

低耗氧量

低功耗

相關(guān)反應(yīng)性高

低AOPR(高級(jí)氧化工藝)能耗

臭氧發(fā)生器COM-VD系列產(chǎn)品應(yīng)用：

+ AOP(高級(jí)氧化技術(shù))污水處理、去除COD

+ HOXON®廢水系統(tǒng), API廢水

+ 半導(dǎo)體加工（如晶圓清洗，電子元件臭氧清洗）

+ 除臭

+ 研發(fā)

+ 藥品生產(chǎn)

臭氧發(fā)生器在半導(dǎo)體晶圓清洗上的應(yīng)用

晶圓清洗是目前半導(dǎo)體生產(chǎn)線上最重要、最嚴(yán)謹(jǐn)?shù)墓ば蛑?，在很多的清洗工序中，只要有一道工序達(dá)不到要求，就會(huì)導(dǎo)致征辟的芯片的報(bào)廢和流程不順暢，傳統(tǒng)的RCA清洗法需要大量的化學(xué)試劑，帶來了成本的增加以及均勻性不一致的問題，而臭氧是一種具有氧化性的氣體，把它溶解在超純水中，噴灑在晶圓表面，可以將表面的有機(jī)污染物氧化為二氧化碳和水，非常容易就可以去除表面有機(jī)物，同時(shí)還會(huì)在晶圓表面形成一層致密的氧化膜。因此德國ANSEROS安索羅斯臭氧發(fā)生器非常適合運(yùn)用在半導(dǎo)體特別是晶圓清洗上。

臭氧發(fā)生器COM-VD系列產(chǎn)品規(guī)格：